Chercheur ou chercheuse

Gauthier Nicolas

Chercheur ou chercheuse identifié(e) à partir d’une publication HAL.

Activité actuelle non vérifiée

Activité scientifique

Informations établies à partir des publications HAL présentes dans le périmètre importé.

7publications HAL repérées
7publications depuis 5 ans
2026publication la plus récente

Domaines HAL

ChimieSciences de l’ingénieurPhysique

Mots-clés fréquents

XPSPolarization anisotropyVibrational modesPolarized Raman spectroscopyMolybdenum disulfidePhosphorusFDSOIX-ray diffractionDopant diffusionRTAThin film reactionsTitaniumSilicidesElectrochemical activationElectrode materialMagnetron sputteringDiamond like carbon

Publications récentes repérées

  1. Layer-dependent Raman polarization anisotropy in MoS₂ films grown by 200 mm-scale atomic layer deposition2026 · Article
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  2. Pt redistribution in Ni(Pt)Si layers obtained via total vs partial reactions and its impact on specific contact resistivity2026 · Communication dans un congrès
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  3. Thermal Atomic Layer Deposition of Ultrathin LiPON at a 200 mm Wafer-Scale2026 · Article
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  4. Study of the chemical stability of precursors used for ALD of lithium-containing films by structural and thermal analyses2026 · Article
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  5. Exploring the relationship between doping and Ti-silicidation for advanced FDSOI applications2026 · Article
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  6. Optimization and electrochemical activation of magnetron-sputtered DLC films for enhanced electrode performance2025 · Article
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  7. Unveiling the structural and electrochemical effects of Al2O3 incorporation within LiPON electrolyte thin films by atomic layer deposition2025 · Article
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Rattaché à

Une publication atteste un rattachement à sa date, mais ne permet pas de savoir s’il existe encore aujourd’hui.

Implantations

  • Localisation de la structure de rattachement « Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information » : CEA Grenoble 17 rue des Martyrs, 38054, Grenoble, France

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Gauthier Nicolas
  • Rattachement documentéDirection de la recherche technologiqueLaboratoireConsulter →
  • Rattachement documentéLaboratoire d'Electronique et de Technologie de l'InformationLaboratoireConsulter →

Une participation commune à un projet ne prouve pas une collaboration directe entre ses participants. Un rattachement repéré dans une publication ne confirme pas à lui seul une affectation actuelle.

Sources et actualisation

HAL

Fiche mise à jour
06/10/2026

Les informations présentées proviennent de données librement accessibles et de sources publiques. Elles peuvent être incomplètes ou avoir évolué ; consultez les sources indiquées pour les confirmer.

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